提出鈍化膜理論的專業人士認為，金屬在化學拋光液中的溶解(腐蝕)可作為電化學過程來看，由于金屬表面各部分的物理和電化學性質的不均一性，使得金屬表面上有許多電位不相同的部分，即金屬表面存在著微觀凸凹不平和或多或少的其他元素和雜質，使金屬表面發生局部電位的高低不平，電位正的部分會發生還原反應，電位負的部分發生氧化反應，即形成了瞬時閉合原電池，產生腐蝕電流，當腐蝕電流密度達到相當高時，就有可能在金屬表面上形成鈍化膜，這種由腐蝕到鈍化的過程與電拋光時的電流原電位曲線十分相似(見圖，曲線的段為腐蝕過程，月兌段為鈍化膜的形成過程，月段為在已形成的鈍化膜內發生的拋光過程，在鈍化膜內微觀凸起部，由于反應活性高而被***先溶解，此一過程反復進行即可得到光亮的金屬表面。
國內專業人士曾發現在化學拋光時，被拋光的金屬表面上有肉眼看不到的氧化物形成，而且拋光時陽極的溫度和電位都會急劇上升，拋光面的耐蝕性比未拋光的面有所提高。這些均表明拋光時拋光面的確易形成固相的鈍化膜。
方景禮等開發的黃銅在混合液中的兩步拋光法，**步先在高濃度低濃度的溶液中進行氧化處理，使黃銅表面形成一層棕色氧化膜，然后在低濃度液中退去氧化膜，即可獲得十分光亮的拋光表面。黃銅在**步溶液中氧化的時間越長，氧化膜的顏色越深，氧化膜的厚度越厚，所得拋光面的光亮度越高。這表明，銅在遭受氧化處理時會形成氧化物型固體膜或鈍化膜，此時金屬的溶解是在緊密的氧化膜內進行的，使表面的各個部分均發生微觀整平，這種表面的微觀整平的***終結果，就使金屬表面變得光亮。
