在體系中陽極液層的電阻遠(yuǎn)大于研究電極與參比電極之間溶液的電阻，而通過界面電容的測定也可以推算出陽極膜的厚度。表員原猿列出了不同陽極電位時陽極膜的厚度與電阻。
 

由表中數(shù)據(jù)可見，電拋光區(qū)陽極界面膜的厚度在數(shù)十埃至員的。
 

在原有的體系中，拋光后的金屬表面無法涂上水銀，這種現(xiàn)象在其他金屬中也出現(xiàn)過，有人認(rèn)為這是由于表面上產(chǎn)生氧化膜所致。
 

在原有交流阻抗法研究電拋光時，發(fā)現(xiàn)在一定的極限電流密度范圍內(nèi)，隨著陽極電位的上升，表面層的電阻會直線增加，可是電容卻會減少。由此認(rèn)為表面形成了固體膜，其厚度在逐漸增加。
 

電解中所產(chǎn)生的發(fā)光現(xiàn)象認(rèn)為是由于固體膜受電氣破壞所致。
 

固體膜論者提出的這一系列論據(jù)均是推論性的，用界面電容法、交流阻抗法所得到的結(jié)論不能確證有固體膜存在。某些研究者將拋光后的試片清洗干凈后直接測定其表面膜，認(rèn)為是形成了氧化物膜，然而銅及其合金極易被空氣氧化，在顯的真空條件下用粵除去表面氧化物后，樣品在顯條件下繼續(xù)放置然后用光電子能譜分析，又發(fā)現(xiàn)其表面有氧化物形成。這說明所謂的氧化物膜并非是在拋光過程中形成的，而可能是在拋光后暴露在空氣中形成的。根據(jù)我們的研究，電拋光后銅片表面氧化層的厚度(以粵則濺射銅樣品達(dá)到零價金屬銅標(biāo)準(zhǔn)峰值的時間計)與未經(jīng)拋光的空白銅片表面氧化層的厚度相當(dāng)(見表員原源，這表明電拋光時銅所測得的氧化物層實(shí)際上是電拋光后銅表面在空氣中停留時被氧化而形成的，這也可從拋光后銅片色澤與空白銅相似、并不發(fā)紅得到證明。此外，在猥熒~源飲定下(析氧區(qū)，圖員原猿的耘云段)電拋光時銅表面開始析氧，有可能氧化表面，但實(shí)測源號、緣號樣品氧化層的厚度并不比其他樣品的厚(時間相當(dāng))，說明源l的拋光時間內(nèi)，樣品上析氧并不氧化銅表面，這也可從源號、緣號樣品的外觀與猿號樣品(拋光區(qū)，圖員原猿曲線的悅點(diǎn))一樣，而與烤紅銅(已氧化的銅)的不同得到證明。
 

為了驗(yàn)證上述結(jié)論，我們還用俄歇電子能譜深度剝蝕技術(shù)對在析氧電壓下電拋光的緣號樣品進(jìn)行復(fù)雜深度剝蝕，所得結(jié)果如圖員原源圖員原緣是高溫氧化后銅表面的雜深度剝蝕圖。由圖可見，樣品表面的氧在濺射已達(dá)很低值并趨于穩(wěn)定，在濺射內(nèi)已達(dá)到穩(wěn)定的低值，表明電拋光樣品表面的氧化層的確很薄，它是電拋光后銅片在空氣中氧化形成的，而不是在電拋光過程中形成的。