A,設(shè)計(jì)核心要求拋光機(jī)必須設(shè)法得到***大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。
B,同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響***終觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。
C,前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用***細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。
綜上所述拋光機(jī)設(shè)計(jì)時(shí)可分為兩個(gè)階段進(jìn)行：
**：粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有***大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能小；
第二：其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到***小。
設(shè)計(jì)注意事項(xiàng)
A、,拋光機(jī)拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤應(yīng)絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。
B、同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。
C、濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。
D、為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，******不要超過600r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長些，因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。
E、精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高，拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。
F、拋光機(jī)拋光質(zhì)量的***壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)。
拋光機(jī) 鏡面拋光機(jī) 拋光材料 光飾機(jī) 拋光磨料
