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改善機(jī)械拋光不同于以往拋光流程

發(fā)布時(shí)間：2013-12-05發(fā)布人： Stabswache

    本產(chǎn)品采用了提高前輩的行星式加工原理，拋光機(jī)特別合用于大小批量小型零件的去除毛刺、表面氧化層及拋光的加工。而拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況，如機(jī)械加工電火花加工磨加工等等。下面先容幾種常用的機(jī)械拋光機(jī)的機(jī)能和特點(diǎn)。目前常用的拋光方法有以下幾種：機(jī)械拋光機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操縱為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。振動(dòng)拋光機(jī)的產(chǎn)品說(shuō)明：振動(dòng)拋光機(jī)具有高頻率的振動(dòng)，使工作物與研磨石或鋼珠、研磨劑等緊密親密平均混合，呈螺旋渦流狀動(dòng)彈，以研磨切削或拋光工作物表面，尤其是那些易受變形或形狀復(fù)雜，孔內(nèi)死角之工作物使用本機(jī)研磨均能得到平均之質(zhì)量，而且在加工運(yùn)轉(zhuǎn)中可隨時(shí)抽驗(yàn)，節(jié)省時(shí)間，拋光機(jī)進(jìn)步質(zhì)量；選料區(qū)設(shè)有轉(zhuǎn)換開(kāi)閘門、過(guò)濾網(wǎng)等可把磨物與被研磨物分離，易于選料，操縱簡(jiǎn)樸。工作原理：拋光機(jī)操縱的樞紐是要想法得到***大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。拋光不僅增加工件的美觀，而且能夠改善材料表面的耐侵蝕性、耐磨性，還可以利便于后續(xù)的注塑加工，如使塑料制品易于脫模，減少出產(chǎn)注塑周期等。振動(dòng)拋光機(jī)的特點(diǎn)：振動(dòng)拋光機(jī)采用長(zhǎng)提高前輩的螺旋翻騰活動(dòng)、三元次振動(dòng)的原理，使零件與滾拋磨具互相研磨達(dá)到拋光的效果.等，合用於去毛刺、形成圓角，拋光機(jī)裝飾性金屬加工，在加工過(guò)程中不會(huì)形成陰影、過(guò)渡地帶和裝飾面不平均等，是金屬制品出產(chǎn)線的重要設(shè)備容量大小我公司常備的現(xiàn)貨有:60升,120升。可在極短時(shí)間內(nèi)迅速完成零件表面的去毛刺、拋光加工。拋光機(jī)拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤應(yīng)絕對(duì)平行并平均地輕壓在拋光盤上，留意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有平均細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光機(jī)損傷層也較深；后者要求使用***細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。機(jī)械拋光基本程序要想獲得高質(zhì)量的拋光效果，***重要的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品。機(jī)械拋光的一般過(guò)程如下:
（1 ）粗拋經(jīng)銑、電火花、磨等工藝后的表面可以選擇轉(zhuǎn)速在 35 000 — 40 000 rpm 的旋轉(zhuǎn)表面拋光機(jī)或超聲波研磨機(jī)進(jìn)行拋光。常用的方法有利用直徑Φ 3mm 、 WA # 400 的輪子去除白色電火花層。然后是手工油石研磨，條狀油石加煤油作為潤(rùn)滑劑或冷卻劑。一般的使用順序?yàn)?#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 。許多模具制造商為了節(jié)約時(shí)間而選擇從 #400 開(kāi)始。
    （2 ）半精拋半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號(hào)數(shù)依次為： #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500 。實(shí)際上 #1500 砂紙只用適于淬硬的模具鋼（ 52HRC 以上），而不適用于預(yù)硬鋼，因?yàn)檫@樣可能會(huì)導(dǎo)致預(yù)硬鋼件表面燒傷。
    （3 ）精拋精拋主要使用鉆石研磨膏。若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進(jìn)行研磨的話，則通常的研磨順序是 9 μ m （#1800 ） ~ 6 μ m （#3000 ） ~3 μ m （#8000 ）。 9 μ m 的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來(lái)去除 #1200 和 #1500 號(hào)砂紙留下的發(fā)狀磨痕。接著用粘氈和鉆石研磨膏進(jìn)行拋光，順序?yàn)?1 μ m （#14000 ） ~ 1/2 μ m （#60000 ） ~1/4 μ m （#100000 ）。
    精度要求在 1 μ m 以上（包括 1 μ m ）的拋光工藝在模具加工車間中一個(gè)清潔的拋光室內(nèi)即可進(jìn)行。若進(jìn)行更加精密的拋光則必需一個(gè)絕對(duì)潔凈的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報(bào)廢數(shù)個(gè)小時(shí)工作后得到的高精密拋光表面。

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